Оборудование для монтажа кристаллов https://atomstroy-ng.ru/dopoborudovanie

Метод: ионно-лучевое послойное травление Размер пластины: до 300 мм Размер ионного пучка: до 2 мм https://atomstroy-ng.ru/avtomatichultrazvuklinii

Оборудование для монтажа кристаллов готовых структур полупроводника на основание (подложку).
Метод: ионное утонение Кол-во ионных источников: 2 Диапазон рабочих энергий : от 100 эВ до 10,0 кэВ Диапазон регулируемых углов полировки: от – 15° до + 10°
Поставка оборудования для микроэлектроники https://atomstroy-ng.ru/mikroelektronika

Микросварочное оборудование https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii