Литографические системы: Это оборудование используется для проецирования изображений микросхем на подложку (например, кремниевые пластины), позволяя создавать экстремально мелкие структуры, такие как транзисторы и проводники https://atomstroy-ng.ru/ruchnayagalvanichliniya
Литография является ключевым процессом в создании микроэлектронных устройств с высокой разрешающей способностью https://atomstroy-ng.ru/avtomatizacyaochiski
Депозиционные системы: Это оборудование используется для нанесения тонких слоев материалов на подложку https://atomstroy-ng.ru/avtomatizacyaochiski
Этот процесс может включать химическое осаждение, испарение или сputtering (разбрызгивание) материалов, таких как металлы, полупроводники и диэлектрики https://atomstroy-ng.ru/ustanovkatravleniya
Этапы обработки подложки: Это оборудование включает в себя различные этапы обработки подложки, такие как очистка, диффузия, ионная имплантация и отжиг https://atomstroy-ng.ru/ustanovkatravleniya
Эти процессы необходимы для изменения физических и химических свойств материалов на подложке в соответствии с требованиями проектирования микросхем https://atomstroy-ng.ru/ustanovkahimobrabotki
Этапы сборки и тестирования: После создания основных элементов микросхемы, их необходимо собрать в конечное устройство и протестировать на работоспособность https://atomstroy-ng.ru/avtomatizacyagalvanliniy
Это включает в себя такие процессы, как монтаж проводников, формирование контактов, заполнение микросхемы смолой и проведение различных тестов, чтобы убедиться в правильной работе устройства https://atomstroy-ng.ru/vannyultrazvukobrabotki
Оборудование для чистых помещений: Вся эта работа проводится в специально организованных чистых помещениях, оборудованных системами вентиляции, фильтрации воздуха и контроля температуры и влажности https://atomstroy-ng.ru/centrifugadlyasushki
Это необходимо для предотвращения загрязнения микроэлектронных устройств частицами пыли и другими примесями, которые могут негативно повлиять на их работу https://atomstroy-ng.ru/avtomatizacyaochiski

Фотолитография https://atomstroy-ng.ru/ustanovkasuchkiplastin

CY-P10L-1000W https://atomstroy-ng.ru/galvanichoborudovanie

Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром 150 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства https://atomstroy-ng.ru/mikroelektronika
Загрузка подложек в рабочую https://atomstroy-ng.ru/centrifugadlyasushki

Установки двухстороннего совмещения и экспонирования https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii

Цена по запросу --> Подробнее https://atomstroy-ng.ru/centrifugadlyasushki