ЪСЦ ббШИЗЪЙ
DS830 https://atomstroy-ng.ru/avtomatizacyagalvanliniy
Скрайбирование и резка пластин https://atomstroy-ng.ru/avtomatizacyaochiski
Атомно-слоевое осаждение https://atomstroy-ng.ru/avtogalvaniclinii
Оборудование: для модели 110 https://atomstroy-ng.ru/galvanichoborudovanie
24 июля 2025 https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii
Советы покупателям —
Ручная зондовая станция, отличающаяся надёжностью и удобством https://atomstroy-ng.ru/centrifugadlyasushki
Предназначена для тестирования электрических параметров широкого перечня микроэлектронных устройств https://atomstroy-ng.ru/vannyultrazvukobrabotki
Параметр Значение Диаметр пластин 3”, 4”, 5”, 6”, 8” Диапазон перемещения рабочей платформы X-Y 240 x 260 мм Механизм перемещения рабочей платформы маховик Диапазон перемещения по Z 10 мм Угол поворота ? ±45° Увеличение 12 https://atomstroy-ng.ru/sistemaventilyacii
5х~3000x Подсветка Оптоволоконный осветитель Загрузка пластины Ручная […]
Установка для ПХ зачистки поверхности CRF-VPO-100L использует методику плазменной очистки https://atomstroy-ng.ru/galvanichoborudovanie
Сферы её применения: упаковка полупроводников, производство гибких печатных плат, энергетика, машиностроение, производство различных электронных устройств, медицинского оборудования и инструментов https://atomstroy-ng.ru/centrifugina...afotorezistera
ГАБАРИТНЫЙ ЧЕРТЁЖ ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ Обрабатываемые изделия подложки, корпуса и рамки микросхем Объём реактивной камеры, л 100 Габаритные размеры установки, мм 990 х 1100 х 1708 […]
Это нано – всем https://atomstroy-ng.ru/sistemaventilyacii
Автоматическая установка литографии https://atomstroy-ng.ru/ustanovkanikelirovaniya
R720А https://atomstroy-ng.ru/ruchnayagalvanichliniya
Может быть интересно:
Оборудование для микроэлектроники https://atomstroy-ng.ru/centrifugina...afotorezistera
МИНАТЕХ завершил поставку и внедрение двух спектроскопических эллипсометров от Ellitop https://atomstroy-ng.ru/ruchnayagalvanichliniya
Интеллект будущего https://atomstroy-ng.ru/vitygnyeshkafy
Фотолитография https://atomstroy-ng.ru/centrifugadlyasushki
Оборудование для производства изделий микроэлектроники https://atomstroy-ng.ru/avtomatizacyagalvanliniy
Осциллирующее поле : 13,56 МГц Энергия ионов : менее 12 эВ Вакуумная система: давление 1 x 10-7 мбар Рабочие газы: 25% кислорода и 75% аргона https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii
Прецизионная система подготовки образцов для ПЭМ методом ионного утонения с диаметром пучка до 1 мкм https://atomstroy-ng.ru/mikroelektronika
Гарантия: 12 месяцев https://atomstroy-ng.ru/ustanovkahimobrabotki
Производитель: Fischione Instruments, Inc https://atomstroy-ng.ru/avtomatizacyaochiski
МИНАТЕХ завершил поставку и запуск двух настольных электронных микроскопов CUBE II от EmCrafts (Корея)
M-RAY VP https://atomstroy-ng.ru/avtomatichultrazvuklinii
Измерительное оборудование Аксессуары Анализаторы спектра и сигналов Векторные анализаторы цепей Векторные генераторы сигналов Генераторы сигнала произвольной формы Мониторинговые приёмники Осциллографы Программируемые источники питания Установки контактной литографии Установки осаждения (PVD, CVD) Вакуумное оборудование Вспомогательное оборудование Скрубберы Зондовые станции Инспекционные микроскопы Установки для тестирования полупроводниковых пластин Установки герметизации корпусов Установки монтажа кристаллов Установки плазменной очистки Установки разварки проволочных перемычек Активные электронные компоненты Источники питания для микроэлектроники Пассивные компоненты электроники СВЧ компоненты Соединители https://atomstroy-ng.ru/avtomatizacyagalvanliniy
В мире острый дефицит микросхем https://atomstroy-ng.ru/
Страдают все отрасли экономики https://atomstroy-ng.ru/sistemaventilyacii
BMW даже начала выпускать автомобили без тачскрина https://atomstroy-ng.ru/avtomatichultrazvuklinii
Но самое интересное, что дефицит острее всего проявляется не для новых модных микросхем, а для старых чипов по старой топологии https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii
Установки для плазмохимического травления представляют собой оборудование, предназначенное для точного удаления материалов с поверхности путем химической реакции, активируемой плазмой https://atomstroy-ng.ru/avtogalvaniclinii
Применяются в производстве микросхем и других полупроводниковых устройств, где необходимо строгое соблюдение технологических параметров https://atomstroy-ng.ru/mikroelektronika
Каталог «Технологическое оборудование для микроэлектроники 2024»
Автоматизированная система ионно-лучевого послойного травления на полупроводниковых пластинах (до 300 мм) для подготовки образцов к CD-SEM (Critical dimensions SEM, контроль критических размеров в сканирующем электронном микросокопе).
Оборудование для производства микроэлектроники в НПО ДиОД https://atomstroy-ng.ru/sistemaventilyacii
Модель инспекционного микроскопа MX12R оснащена 12- дюймовой рабочей платформой с держателями 4, 6, 8 и 12 дюймов и применяется для инспекции полупроводниковых пластин диаметром до 300мм и плоских дисплеев с диагональю до 17 дюймов https://atomstroy-ng.ru/ustanovkahimobrabotki
Основные преимущества Схема инспекционного микроскопа MX12R Основные технические характеристики инспекционного микроскопа MX12R Оптическая система скорректированная на бесконечность Режим наблюдения светлое поле […]
BG–406 https://atomstroy-ng.ru/
ДИФФУЗИОННАЯ ПЕЧЬ https://atomstroy-ng.ru/ustanovkaobr...hrasvoritelyah
Настольная прецизионная система подготовки высококачественных образцов для ПЭМ из широкого спектра материалов https://atomstroy-ng.ru/ustanovkaadonirovanie
Полный комплекс оборудования и оснастки от ведущих мировых производителей для всех технологических процессов и задач в области микроэлектроники: фотолитография, плазмохимия, термические процессы, микросборка и монтаж, шлифовка и полировка, дисковая резка, аналитическое оборудование https://atomstroy-ng.ru/centrifugadlyasushki
Эффективная очистка образцов для электронной микроскопии от органического углерода https://atomstroy-ng.ru/ustanovkaobr...hrasvoritelyah
Автоматизированная система ионно-лучевого послойного травления на полупроводниковых пластинах (до 300 мм) для подготовки образцов к CD-SEM (Critical dimensions SEM, контроль критических размеров в сканирующем электронном микросокопе).